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徐剑芳

高级工程师

jfxu@xmu.edu.cn

萨本栋微机电中心307室

个人主页:

研究领域 超高真空化学气相淀积系统(UHVCVD)的维护, SiGe 半导体材料的生长及其性质的研究

教育和工作经历
1993.9~1997.6 华中理工大学 固体电子系 攻读学士学位
2001.9~2006.6 厦门大学物理系 攻读硕士学位
1997.9至今 厦门大学物理系工作
代表性文章或专著
1) 微波大功率SiGe HBT的研究进展及其应用, 徐剑芳,李成,赖虹凯,微电子学,2005,35(5):521-526
2)循环氧化/退火制备GeOI薄膜材料及其性质研究,,胡美娇,李成*,徐剑芳,赖虹凯,陈松岩,物理学报,2011,60(7):070000-1-5
姓名 徐剑芳 职称职务 高级工程师
邮箱 jfxu@xmu.edu.cn 办公室 萨本栋微机电中心307室
电话 个人主页
其他信息 研究方向岗位职责 超高真空化学气相淀积系统(UHVCVD)的维护, SiGe 半导体材料的生长及其性质的研究
教育和工作经历 1993.9~1997.6 华中理工大学 固体电子系 攻读学士学位
2001.9~2006.6 厦门大学物理系 攻读硕士学位
1997.9至今 厦门大学物理系工作
代表性文章或专著 1) 微波大功率SiGe HBT的研究进展及其应用, 徐剑芳,李成,赖虹凯,微电子学,2005,35(5):521-526
2)循环氧化/退火制备GeOI薄膜材料及其性质研究,,胡美娇,李成*,徐剑芳,赖虹凯,陈松岩,物理学报,2011,60(7):070000-1-5
科研基金及项目 任教课程
招生方向 荣誉奖励